LiNb03铌酸鋰電光(guāng)調製器因其(qí)高寬帶,低損耗,全波段,長時間可靠性等(děng)區別於其他技術的特性,一直(zhí)以來被廣泛應用在各個領域,尤其是在非通訊波段,例如800-900nm原子物理學,1um激光波段(duàn)等,矽光,GaAs, InP等通訊產品無法覆蓋的波段(duàn),使得铌(ní)酸鋰電光(guāng)調製器成為強度和相位調製(zhì)的首選器件。
铌酸鋰的透射光譜400-5000nm
電光調製器的性能主要由幾個參數決定,插損,半波電壓,帶寬和消光比等是最常見的。相(xiàng)對而言,最經常遇到的問題之一是半波電壓隨頻率的變化,在不同的RF信號頻率(lǜ),調製器的RF半波電(diàn)壓不同(見下圖),頻率越高,半波電壓也隨之升高,這也直接影響調製器輸出的光信號強度(強度調製(zhì)器)和頻譜分布(bù)(相位調製器)。而所有(yǒu)調製器生產商都隻給出定點(diǎn)頻(pín)率的半(bàn)波電壓值,通常(cháng)為調製器的起(qǐ)始低頻工(gōng)作頻率。而實際(jì)應用中,我們需要工(gōng)作在不同的頻率,甚至全頻段掃頻,那麽了解調製器在不同頻率下(xià)的半波電壓對(duì)最終應用就顯得尤其重要。本章節將介紹電光調製器全頻段或定點頻率的半波電壓的測(cè)量方法。
通常有兩種半波電壓的定義(請參考微信文章“iXblue電光調製器常見參數定義”):直流(liú)偏壓的半波電壓VpDC和(hé)射頻半波電壓VpRF。由於直流偏(piān)壓僅僅是(shì)為(wéi)控製調製器的工作點(diǎn),直接由(yóu)穩壓電源或者偏壓控製器提供直流電壓,無射(shè)頻(pín)信號,因為其不在我們下麵討論(lùn)的範圍內。我(wǒ)們(men)僅僅介紹(shào)如何測量調製器射頻半波電壓VpRF(RF 射頻端口) 。
電光調製器的一(yī)個關鍵點(diǎn)是射頻驅(qū)動電壓(yā),射頻驅(qū)動電壓為由射頻半波電壓VpRF定義。在光通信(xìn)上傳輸數字信號“0”必(bì)須應用於調製器的最(zuì)小傳輸,而“1”必須應用到調製器的最大傳輸。所(suǒ)需的切換電(diàn)壓正好對應於調製器的半波電壓。 也可理解為射頻半波電壓VpRF是射頻信號源的電壓注入(rù)RF射頻端口,使輸出的光波(bō)產生一個p相移所需的電壓。
僅僅從最基(jī)礎的理論出發,VpRF的數值取決於給定的物理參數(簡(jiǎn)易公式如下),特別是材料電光係數(r33),折射率(ne)和波(bō)導設計參數:包括波導的長度(L),波導射頻電極的尺寸等。調製器的設計目的必須確保更低的VpRF和更高的電頻率帶寬響應S21。
從上麵公式我們可以看出:
1.材料和晶體(tǐ)軸向的選擇:铌酸鋰相對其他材料的優勢,並且光軸的Z軸電光係數較高(半波電壓小),所以線偏(piān)振光沿著(zhe)Z軸傳輸。
2.半波電壓與波(bō)長λ有關,波長越大,半波電壓越大,例如常規的iXblue調製器VpRF數值如下:
9Vpp@2000nm
5Vpp@1550nm
3.5Vpp@800nm
通常iXblue的調製器,單一型號的產品可用的波長帶(dài)寬範圍從幾十nm到200nm不等。例如,對(duì)於1550nm常見調製器,其射頻半(bàn)波電壓隨工作(zuò)波長的關係如下圖,可以看出在該波長範圍內,VpRF的相對變化約為8%。這(zhè)個變化是可以(yǐ)通過(guò)調節調製器驅動放大器的增益1dB來修(xiū)正的,這也(yě)表明M-Z調製器適用於任何通訊設備C&L區(qū)域的波長,可以在DWDM設(shè)備中的任何ITU波(bō)長工作。
上圖給(gěi)出了半波電壓隨激光(guāng)光源波長的變(biàn)化。
3.波導長度(L):小型化和集成(chéng)化光學器件是光通訊行(háng)業的必要條件,但是如果波導長度減少1倍,半波電壓就(jiù)要升高一倍。在高頻幾十GHz的(de)時候,半波電(diàn)壓會超過10Vpp甚至更高,那麽對射頻(pín)驅動電壓的要求就非常高甚至不現實,這也是為什麽常規铌酸鋰波導型電光調(diào)製器的體(tǐ)積無法實現質(zhì)的(de)變化,同時也催生了例如矽光等新技術的出現,用於解(jiě)決集成化光學器件的需求。
從上麵基礎公(gōng)式(shì)可以發現,調製器的半波電壓所關聯的物理參數都是和(hé)射頻信號的頻率無關的,那(nà)麽為什麽會出現VpRF隨(suí)頻率變化的現象(xiàng)呢?
這是因為盡管與材料無關,但是設(shè)計和生產方麵(miàn),任何射頻(pín)電子零(líng)部件,隨著頻率(lǜ)的(de)升高都會有射頻(pín)的(de)衰減,其功率從最高點下降到1/2的位置對應的頻率,我們稱為-3dB帶寬(請參考微信文章“iXblue電光調製(zhì)器常見參數(shù)定義”)。雖然材料本身的參數並不隨頻率升高而變化,但是波導的電極等射頻部分(fèn)不可(kě)避免的存在高頻衰減,因此調製器的射(shè)頻半波電壓Vp RF隨著頻(pín)率的升高而升高。
首先我們先看一下如(rú)何在單一頻率下測量VpRF,詳細實驗設置,請參考微信文章“iXblue電光調製器常見參數定義”)
下圖中黃色的曲線是鋸齒波射頻的(de)電信號(10Vpp)作用於電光強度調製(zhì)器(qì)MX-LN-10調製器射(shè)頻接口上。綠色曲線是強(qiáng)度調整器輸出的光強,通過測量p相移所(suǒ)需的(de)電壓,VpRF=4.8V@1540nm。使用(yòng)不同頻率(lǜ)的射頻電信號(hào),我們可以測得對(duì)應頻率下(xià)的VpRF。但是這種測(cè)量方法,並且隨著頻率的升高,所(suǒ)需的高頻設備也(yě)會變得非常昂貴。
強度調製器半波電壓的測量
l 簡單計算法則(zé):
調製器半波電壓隨頻率的升高而升高(gāo),在無昂貴高頻測量設備的條件下,我們也可以估算出高(gāo)頻任意頻率的(de)半波(bō)電壓。以iXblue測試報告為例,我(wǒ)們隻測量起始低頻(pín)時的VpRF,那麽在高頻-3dB頻率時,對應的半波電壓為低頻數值乘以根號2,舉例如下(xià):
低頻Vpi (50KHz)=4V,
如果3dB帶寬是10GHz, 在10G的(de)時候,半VpRF=4*1.414~5.6V
中間頻率的數值為線性關係(xì),例如在5GHz的時候 VpRF~4.8V
特別需要注意的是調製器-3dB單寬並非像型號標定的那樣,-10代表10GHz,下麵請見(jiàn)iXblue廠家命名方(fāng)式及其-3dB帶寬,具體哪個調(diào)製器的-3dB帶寬是多少要參考手冊或者聯係我們(men)。
• -10: >10GHz, 甚至14GHz
• -20: >18GHz
• -40: >28GHz
VpRF VS Frequency-測量調製(zhì)器帶寬S21
S21定義為注入調製器射頻端口的電信號-3dB高頻截至帶寬(kuān)。強度調製器需要設置在正確的(de)直流偏壓點,需要高速(sù)網絡分析儀(yí)和光(guāng)探(tàn)測器測量調(diào)製器輸出光(guāng)信號,請參考微信文章“iXblue電光調製器常見參(cān)數定義”。對於相(xiàng)位調製器測量S21,無法直接測量(liàng),請參考我們微信文章”相位調製器帶寬(kuān)測試”應用指南。
典型(xíng)MXAN-LN-40的S21曲線(xiàn)
當我們測量(liàng)得到調製器的S21曲(qǔ)線(xiàn)後,通(tōng)過測試報告上低頻Vp RF(50KHz)數值除以S21曲線(注意從S21功率到電壓存在根號的關係)就可以得到半波電壓隨(suí)頻率的變化,據此可以確定(dìng)調製器任意頻率的半波電壓VpRF。
MX/MXAN 半波電壓隨頻(pín)率的變化,注:抖動部分主要是由於測量噪聲和平均值(zhí)的(de)采樣數量。
如(rú)前麵所說,相對強度調製器(qì),相位調製器無(wú)論是VpRF還是帶寬,都沒有直接的測量方法,所以如果想知道相位調製器半(bàn)波電壓在不同(tóng)頻率下(xià)的數值就(jiù)變得十分困難。相比采購和搭建複雜而昂貴的測試係(xì)統,有一個種方便和簡潔的方法(fǎ)。
連續激光經過相位調製器後,通過光譜儀測量的結果是載(zǎi)波和多階邊帶的頻率,其頻(pín)譜(pǔ)強度服從(cóng)貝塞爾函數:
舉例如下圖(tú),射頻信號頻率(lǜ)為(wéi)14.25GHz, 根據驅動(dòng)電壓強度大小,可以產生10多階邊帶(dài),將載波光譜展寬至400GHz數量級。
貝塞爾函數(shù)模擬計算(suàn)如下圖所示,當調製深度(modulation index)γ=2.4的時(shí)候,載波(紅線)強度為零,調製深度定義為:
Vp(Ω)為頻率為Ω時的半波電壓,V0為注入到調製器的射頻驅動電壓。
我們對相位調製器(qì)輸入一個指定頻率Ω的正弦信(xìn)號,比如Ω=1GHz,通過貝塞(sāi)爾函數曲線可以看出,逐漸(jiàn)加大調製深度(增加1GHz正弦(xián)信號的電(diàn)壓(yā)V0),光譜儀測(cè)量的載波(bō)強度逐漸(jiàn)變小直至消失。此時已(yǐ)知輸入信號的V0,按照如下公式,就可計算出(chū)相位調製器在1GHz時的射頻半波電壓VpRF,同理(lǐ)也可測量其他頻率的半波電壓。
相位調製器的輸出光譜隨射頻驅動電壓的變化
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